º»¹® ¹Ù·Î°¡±â

Ultrapure Water

1. ¼ø¼ö/Ãʼø¼ö¶õ?

  • Ãʼø¼ö(Ultrapure Water)¶õ ¿ø¼ö Áß¿¡ Á¸ÀçÇÏ´Â ´Ù¾çÇÑ ¿À¿°¹°ÁúÀÌ °ÅÀÇ ¿ÏÀüÇÏ°ÔÁ¦°ÅµÈ ¸Å¿ì¼ø¼öÇÑ ¹°À» ¸»ÇÕ´Ï´Ù.Áï,Ãʼø¼ö¶õ ¼öÁß¿¡ À¯±â ¹× ¹«±â È­ÇÕ¹°,¿ëÇؼº ¹× ÀÔÀÚ¼º ¹°Áú,Èֹ߼º ¹× ºñÈֹ߼º,¹ÝÀÀ¼º,ºÒÈ°¼º,Ä£¼ö¼º ¹× ¼Ò¼ö¼º,¿ëÇØ °¡½º µî ¸ðµç À¯ÇüÀÇ ¿À¿°¹°Áú¿¡ ´ëÇØ ÃÖ°í ¼öÁØÀ¸·Î 󸮵Ǿú´Ù´Â »ç½ÇÀ» °­Á¶Çϱâ À§ÇØ ÀϹÝÀûÀ¸·Î »ç¿ëµÇ´Â ¿ë¾îÀÔ´Ï´Ù.
  • Ãʼø¼ö(UP Water)Á¦Á¶´Â RO(Reverse Osmosis)¸·, EDI¸ðµâ, UV¸ê±Õ,À̿±³È¯¼öÁö µî ¿©·¯´Ü°èÀÇ ¹°¸®Àû․È­ÇÐÀûÀÎ °íµµÁ¤¼ö󸮱â¼úÀ» Á¶ÇÕÇÏ¿© ¼öÁßÀÇ ¿À¿°¹°ÁúÀ» Á¦°ÅÇÕ´Ï´Ù.Áï,°ø¾÷¿ë¼ö µî ¿ø¼ö¸¦ Pretreatment°øÁ¤¿¡¼­ Àü󸮼ö »ý»ê→ Primary Treatment°øÁ¤¿¡¼­ ¼ø¼ö »ý»ê → Final Polishing°øÁ¤À» °ÅÃÄ ÃÖÁ¾ÀÇ Ãʼø¼ö¸¦ ¾ò°Ô µË´Ï´Ù.

 

Ultrapure Water; RO+EDI

(Ultrapure Water; RO+EDI)

2. Ãʼø¼öÀÇ ¼öÁú ¹× ¿ëµµ

  • UP Water´Â »ý»ê°ú Áï½Ã Fab(Fabrication facility)µî¿¡¼­ »ç¿ëÇÏ´Â °ÍÀÌ ÀϹÝÀûÀÔ´Ï´Ù.ÀÌ´Â Ãʼø¼ö¸¦ ÀúÀåÇÏ´Â ¼ø°£ °ø±âÁßÀÇ CO2°¡ ³ì¾Æ µé¾î°¡ CO32-,HCO3-·Î ¹Ù²î¸é¼­ ºñÀúÇ×ÀÌ °¨¼ÒµÇ´Â µî ¼öÁúÀ» À¯ÁöÇϸ鼭 ÀúÀåÇÏ´Â °ÍÀÌ¸Å¿ì ¾î·Æ±â ¶§¹®ÀÔ´Ï´Ù.¹Ý¸é,¼Ò±Ô¸ðÀÇ °æ¿ì¿¡´Â Áú¼Ò°¡ ä¿öÁø Ư¼ö Tank¿¡ ÀúÀåÇÏ¿© »ç¿ëÇϱ⵵ ÇÕ´Ï´Ù.
  • UP Water´Â ÀϹÝÀûÀ¸·Î ¹ÝµµÃ¼,µð½ºÇ÷¹ÀÌ,ž籤 ÆгΠµî ´Ù¾çÇÑ ÃÊÁ¤¹Ð »ê¾÷¿¡¼­ °ø¾÷¿ë¼ö·Î ±¤¹üÀ§ÇÏ°Ô ¾²À̸ç,UP Water´Â ½Ã·á¿¡ ¿µÇâÀ» ÁÖÁö ¾Ê¾Æ °¢Á¾ ºÐ¼® ½ÇÇè½Ç¿¡¼­ ¹Î°¨ÇÏ°í Áß¿äÇÑ °úÇÐ ºÐ¾ß¿¡ »ç¿ëµË´Ï´Ù.

 

1)Ãʼø¼ö ¼öÁú±âÁØ º¯È­

  • Ãʼø¼ö ¼öÁú¿¡ ´ëÇÑ ±âÁØÀº ¹Ì±¹ÀÇ °æ¿ì ¹Ì±¹Àç·á½ÃÇèÇùȸ(ASTM;American Society for Testing and Materials),¹ÝµµÃ¼Á¦Á¶ÀåºñÀç·áÇùȸ(SEMI; Semiconductor Equipment and Material Institute)¸¦ ÅëÇÏ¿© Ãʼø¼ö¿¡ ´ëÇÑ ¼öÁú±âÁØ°ú Æò°¡¹æ¹ýÀ» Á¦½ÃÇÏ°í ÀÖÀ¸¸ç,ÀϺ»ÀÇ °æ¿ì JIS¸¦ ÅëÇÏ¿© ¼öÁú±âÁØÀ» Á¦½ÃÇÏ°í ÀÖ´Ù.
  • Ãʼø¼ö ¼öÁúÀº ¹ÝµµÃ¼ ±â¼úÀÇ ¹ßÀü¿¡ µû¶ó ºÒ¼ø¹° ³óµµ¸¦ ppb(part perbillion)¼öÁØÀ» ³Ñ¾î ppt(part per trillion)¼öÁØ ÀÌÇÏ·Î ¿ä±¸ÇÏ°í ÀÖ´Ù.

 

 

±¸ ºÐ

1980³â´ë

1990³â´ë

2000³â´ë

2010³â ÀÌÈÄ

±â ÁØ

ASTM E-1

ASTM E-1.1~E-1.2

ASTM E-1.2~E-1.3

ASTM E-1.3

TOC(ppb)

5~50

1~5

<1

0.5~1

¾çÀÌ¿Â(ppt)

50

5

1

0.5

À½ÀÌ¿Â(ppt)

1000

20

10

5

ÀÔÀÚÅ©±â(nm)

50~100

50~100

<50

<25

 

¡ØÃʼø¼ö ¼öÁú ´ÜÀ§

  • ºÒ¼ø¹° ³óµµ : ppb(part perbillion), ppt(part per trillion)
  • ºñÀúÇ×(Specific Resistivity) : MΩ.cm (Megohm-centimeters)
    • ¹°ÁúÀÇ °íÀ¯ ´ÜÀ§·Î¼­ ´ÜÀ§¸éÀû ´ÜÀ§±æÀÌ´ç ÀúÇ×À» ³ªÅ¸³»´Â °ª
  • Àü±â ÀüµµÀ²(Conductivity) :μS/cm (Microsiemens per centimeter)
    • ¹°Ã¼¿¡ Àü±â°¡ ÀüµµµÇ´Â Á¤µµ¸¦ ³ªÅ¸³»´Â °ª
      ¢Ñ ºñÀúÇ×°ú Àü±â ÀüµµÀ²Àº ¹°¼ÓÀÇ ÀÌ¿ÂÀÇ ¼ö¿Í ÀüÇÏ·®°úÀÇ °ü°è·Î ¹°¼ÓÀÇ ÀÌ¿ÂÀÇ ¼ö°¡ Áõ°¡µÇ¸é ÀüµµÀ² °ªÀº Áõ°¡ÇÏ°í ºñÀúÇ× °ªÀº ³·¾ÆÁø´Ù.
      Áï,ºñÀúÇ×Àº ÀüµµÀ²°ú ¿ª¼ö°ü°è(ºñÀúÇ×=1/ÀüµµÀ²)

 

2)UPwater¿Í DIwaterÂ÷ÀÌÁ¡

  • UP(Ultrapure)Water¿Í Di(Deionized) water´Â ¸ðµÎ ¸Å¿ì ¼ø¼öÇÑ ¹°À̶ó ÇÒ ¼ö ÀÖÀ¸³ª,󸮹æ½ÄÀº È®¿¬ÇÏ°Ô ´Ù¸§À» ¾Ë ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù. UP Water´Â »ó±â¿Í °°ÀÌ RO, EDI, UVµî ´Ù¾çÇÑ °íµµÀÇ Ã³¸®°øÁ¤À» ÅëÇÏ¿© Á¦Á¶µÈ WaterÀÎ ¹Ý¸é, DI water´Â Deionization°úÁ¤À» ÅëÇØ À̿¹°Áú¸¸ Á¦°ÅµÈ WaterÀ̶ó ÇÒ ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù.

 

 

±¸ ºÐ

Pre-

treatment

RO

Ion- exchange*

254nm

UV Lamp

185nm

UV Lamp

Ultra-

purification

DI water

 

 

IX

¼±ÅûçÇ×

×

×

UP water

 

 

EDI

 

 

 

* IX : Ion exchange, EDI : Electrodeionization

 

  • DIwater´Â À̿±³È¯¼öÁö¸¦ ÀÌ¿ëÇÏ¿© Å»ÀÌ¿Â °úÁ¤¿¡¼­ ¹° ¼ÓÀÇ À½À̿°ú ¾çÀÌ¿Â(¿ëÇØ¿°)À» °ÅÀÇ ¸ðµÎ Á¦°ÅÇÑ´Ù.¹Ý¸é,¿ëÁ¸À¯±â¹°(DOM)¹× ¿¡Åº¿Ã µîÀÇ ºñÀÌ¿ÂÈ­ ÀüÇØÁúÀº Á¦°ÅÇÏÁö ¾Ê¾Æ ÀúÀåÁß¿¡ ¼¼±Õ ¹ø½ÄÀ» ÀÏÀ¸Å°±â ½±´Ù.
  • UPwater´Â DI water¿Í ´Þ¸® ÀüÇØÁú ¿À¿°¹°Áú»Ó¸¸ ¾Æ´Ï¶ó ºñ ÀüÇØÁú ¿À¿°¹°Áú°ú À¯±â¹°À» ¸ðµÎ Á¦°ÅÇÑ´Ù.Áï,¸ðµç ºñ¼ö¼º ¹°ÁúÀ» ¹°¿¡¼­ Á¦°ÅÇÑ´Ù.

 

 

±¸ ºÐ

Ions

Organic

Colloids/

Particles

Bacteria/

DNase/RNase

Gas

DI water

 

×

×

×

×

UP water

 

 

 

 

 

(Ãâó : rephiLe.com)

 

3)Ãʼø¼öÀÇ ¿ëµµ

  • ±âÃÊ°úÇÐ ºÐ¾ß :À¯Àü°øÇÐ ¿¬±¸¼Ò µî ºÐ¼® ½ÇÇè½Ç
  • ITºÐ¾ß :¹ÝµµÃ¼ ¹× LCD»ê¾÷ µî¿¡¼­ ¼¼Ã´¿ë¼ö,ÃÊÀ½ÆÄ ¼¼Ã´¿ë¼ö µî
  • ±âŸºÐ¾ß :ÀÇ·á Á¦¾àºÐ¾ß,È­ÇÐºÐ¾ß ¹× High Technology»ê¾÷,¹ßÀü¿ë º¸ÀÏ·¯ ¿ë¼ö µî ¹üÀ§ ´õ¿í Áõ°¡ ¿¹»ó

3.󸮰øÁ¤º° Ư¡

  • Ãʼø¼ö Á¦Á¶´Â ¹°¼ÓÀÇ ´Ù¾çÇÑ ¿À¿°¹°ÁúÀ» ¿Ïº®ÇÏ°Ô Á¦°ÅÇϱâ À§ÇÏ¿© ´Ü°èº°·Î ¼±ÅÃÀûÀÌ°í Á¤¹ÐÇÑ °øÁ¤À¸·Î ±¸¼ºµÇ´Âµ¥,¿ø¼öÀÇ Æ¯¼º ¹× »ç¿ëóÀÇ ¿ä±¸Á¶°Ç¿¡ µû¶ó ¼­·Î ´Ù¸¥ Á¶ÇÕÀ¸·Î ±¸¼ºµÉ ¼ö ÀÖ´Ù.
  • Ãʼø¼ö Á¦Á¶°øÁ¤À» ¾ÈÁ¤ÀûÀ¸·Î ¿î¿µÇϱâ À§Çؼ­´Â »ý»ê¼öÀÇ ¼öÁú ÃøÁ¤ÇÑ°è ÀÌÇÏÀÇ ¿À¿°¹°ÁúÀ» ÃøÁ¤ÇÏ°í Á¤·®ÇÒ ¼ö ÀÖ´Â »õ·Î¿î ºÐ¼®±â¼úÀÌ ¿ä±¸µÈ´Ù.ƯÈ÷,Ãʼø¼ö Á¦Á¶°úÁ¤¿¡¼­ »ç¿ëÁßÀÎ ºÐ¼®Àåºñ´Â ´ëºÎºÐ µ¶Á¡ÀûÀÎ ÁöÀ§¸¦ À¯ÁöÇÏ°í ÀÖ¾î Ãʼø¼öÁ¦Á¶ÀÇ ÀÚ¸³È­¸¦ À§Çؼ­´Â ¼öÁú °èÃø±â±â µî¿¡ ´ëÇÑ Áö¼ÓÀûÀÌ¸ç »õ·Î¿î ±â¼ú°³¹ßÀÌ ÇÊ¿äÇÏ´Ù.

 

<Ãʼø¼ö Á¦Á¶°øÁ¤ ´Ü°èº° ±¸¼º ¹× Á¦°Å´ë»ó ¹°Áú>

 

±¸ ºÐ

Àüó¸® °øÁ¤

 

¼ø¼ö Á¦Á¶ °øÁ¤(1Â÷ ó¸®)

 

Ãʼø¼ö Á¦Á¶ °øÁ¤(2Â÷ ó¸®)

󸮰øÁ¤

- A/CÇÊÅÍ

- MFÇÊÅÍ

- 2´Ü R/Oµî

->

-Å»±â °øÁ¤

-À̿±³È¯Á¤Ä¡(MBP)

-Àڿܼ±(UV)»êÈ­

- EDIµî

->

-Àڿܼ±(UV)»êÈ­

-À̿±³È¯ÀåÄ¡(MBP)

  • UF¸· ó¸®

-Å»±âÀåÄ¡ µî

Á¦°Å

´ë»ó ¹°Áú

-ÀÔÀÚ¼º ¹°Áú

  • ¿ëÁ¸¹°Áú µî

 

-¿ëÁ¸ ±âü

  • ÀÜ·ù ¿ëÁ¸ÀÌ¿Â
  • À¯±â¹° µî

 

-¹°¼Ó ¿À¿°¹°Áú ÀçÂ÷ ¿ÏÀü Á¦°Å

 

  • ¡Ø À̿±³È¯ÀåÄ¡(MBP: Mixed Bed Polisher):À̿±³È¯¼öÁö¸¦ ÀÌ¿ë ¼öÁßÀÇ ÀÌ¿Â Á¦°Å
  • ¡Ø EDI(Electrodeionization) :¹ÝÅõ°ú¼º ¸·,À̿±³È¯¼öÁö,Àü±â¸¦ ÀÌ¿ëÇØ ¹°À»Å»ÀÌ¿ÂÈ­ÇÏ°í ¿ëÇØµÈ ÀÌ¿Â(ºÒ¼ø¹°)À» ¹°¿¡¼­ ºÐ¸®ÇÏ´Â ±â¼ú
  • ¡Ø TDS(Total Dissolved Solid) :ÃÑ¿ëÁ¸Çü¹°Áú·Î ¹°¼Ó¿¡ ³ì¾ÆÀÖ´Â Ä®½·,¸¶±×³×½· µîÀÇ ¹«±â¹°°ú,À¯±â¹° µîÀÇ ¾ç
    • ÃÑ Áõ¹ß ÀÜÀ¯¹°(TS; Total Solids)Àº ¿ø¼ö¸¦ ¿©°ú½ÃÅ°Áö ¾Ê°í ±×³É Áõ¹ß½ÃÄѼ­ ³²´Â ¸ðµç ¹°Áú·Î ÃѺÎÀ¯ °íÇü¹°(TSS; Total Suspended Solids)°ú ÃÑ¿ëÁ¸ °íÇü¹°(TDS; Total Dissolved Solids)À» ÇÕÇÑ °Í
  • ¡Ø TOC(Total Organic Carbon) :ÃÑÀ¯±âź¼Ò·®À¸·Î º¸Åë DOC(¿ëÁ¸¼ºÀ¯±âź¼Ò : Dissolved Organic Carbon)·®°ú POC(ÀÔÀÚ¼ºÀ¯±âź¼Ò : Particulate Organic Carbon)·®ÀÇ ÇÕÀ¸·Î ÃÑź¼Ò¿¡¼­ CO2°¡ ¹°¿¡ ¿ëÇصǾî CO3-, HCO3-ÇüÅ·ΠÁ¸ÀçÇÏ´Â ¹«±â¼ºÅº¼Ò¸¦ »« °ªÀ» ¸»ÇÔ

 

1) RO System

  • R/O SystemÀº ¾Ð·Â¿¡³ÊÁö¸¦ ÀÌ¿ëÇÏ¿© ¹°Àº Åë°ú½ÃÅ°Áö¸¸ ¿ëÁú(À̿¼º ¹°Áú)Àº °ÅÀÇ Åõ°ú½ÃÅ°Áö ¾Ê´Â ¿ª»ïÅõ¸·(Reverse Osmosis Membrane)¿¡ ¿ø¼ö¸¦ °¡¾ÐÇÏ¿© ¼ø¼öÇÑ ¹°¸¸À» ºÐ¸®Çس»´Â ¹æ¹ýÀ¸·Î¿ª»ïÅõ¸·À» °ÅÄ£ 󸮼ö´Â À̿¼º ¹°Áú(Cl-,Na+,SO42-,Mg2+, Ca2+,K+µî)ÀÌ °ÅÀÇ Á¦°Å µÈ´Ù.

 

RO System

(RO System)

 

(1) ¿ø ¸®

  • ¿ª »ïÅõ¹ýÀ̶õ ÀÚ¿¬°èÀÇ Çö»óÀÎ »ïÅõÇö»óÀ» ¹Ý´ë·Î ¿ª »ïÅõÇö»óÀ» ÀÌ¿ëÇÏ¿© ¼ø¼öÇÑ ¹°À» ¾ò´Â ¹æ½ÄÀÌ´Ù.Áï,¹ÝÅõ¸·À» »çÀÌ¿¡ µÎ°í Àú³óµµ ¿ë¾×(´ã¼ö)¿Í °í³óµµ ¿ë¾×(Çؼö)À» µÎ¸é Àú³óµµ ¿ë¾×ÀÌ °í³óµµ ¿ë¾×À¸·Î Èê·¯°¡´Â Çö»óÀ» »ïÅõÇö»óÀ̶õ Çϸç,°í³óµµ ¿ë¾×¿¡ ¾Ð·ÂÀ» °¡ÇÏ¿© °í³óµµ ¿ë¾×¿¡¼­ ¼ø¼öÇÑ ¹°¸¸ Àú³óµµ ¿ë¾× ÃøÀ¸·Î Èê·¯ µé¾î°¡´Â Çö»óÀ» ¿ª»ïÅõÇö»óÀ̶ó ÇÑ´Ù.
  • ¿©±â¿¡ »ç¿ëµÇ´Â ¹ÝÅõ¸·(¸âºê·¹ÀÎ)Àº ¹°¿¡ ¿ëÇصǾî ÀÖ´Â À̿¼º ¹°ÁúÀº°ÅÀÇ ¹èÁ¦µÇ°í,¼ø¼öÇÑ ¹°¸¸ Åë°ú½ÃÅ°´Â Ư¼öÇÑ ¼ºÁúÀ» °¡Áö°í ÀÖ´Ù.

 

(2) Ư ¡

  • ¹«±â¹°ÀÌ À¯±â¹°º¸´Ù Àß ºÐ¸®µÈ´Ù.
  • ÀüÇØÁúÀÌ ºñÀüÇØÁúº¸´Ù Àß ºÐ¸®µÈ´Ù.
  • ÀüÇØÁúÀÇ °æ¿ì ÇÏÀüÀÌ ³ôÀ¸¸é ºÐ¸®¼ºÀÌ ³ô´Ù.(3°¡ ÀÌ¿Â > 2°¡ ÀÌ¿Â > 1°¡ ÀÌ¿Â)
  • ºñÀüÇØÁúÀÇ °æ¿ì´Â ºÐÀÚÀÇ Å©±â°¡ Å©¸é Àß Á¦°ÅµÈ´Ù.
  • ÀÀ¿ë¹üÀ§°¡ ³Ð°í ¿Âµµº¯È­°¡ ÀûÀº °øÁ¤¿¡ Àû¿ëÀÌ °¡´ÉÇϸç,°øÁ¤¼³°è ¹× scale-upÀÌ °£´ÜÇÏ°í ¿îÀü ¹× ÀåÄ¡°¡ ´Ü¼øÇÏ¿© ÀÚµ¿È­ ½±´Ù.

 

2) EDI(Electrodeionization)

  • EDI(Electrodeionization)´Â ¼¿(cell)·Î ±¸¼ºµÈ ¹°ÀÌ Åë°úÇÏ´Â À̿±³È¯¸· »çÀÌ¿¡ È¥»ó À̿±³È¯¼öÁö¸¦ ³Ö°í Á÷·ùÀü·ù¸¦ °É¾îÁÖ¾î ÀÌ¿ÂÀÌ Àü±Ø ÂÊÀ¸·Î ²ø·Á Á¦°ÅµÇ´Â ¿ø¸®¸¦ ÀÌ¿ëÇÏ´Â °íÈ¿À² ¼ø¼öÁ¦Á¶ ±â¼úÀÌ´Ù.

EDI ModuleÀÇ ¿ÜºÎ ¹× ³»ºÎ

(EDI ModuleÀÇ ¿ÜºÎ ¹× ³»ºÎ)

 

(1) ¿ø ¸®

  • EDI±âº»¿ø¸®´Â ¾çÀ̿±³È¯¸·Àº À½ÀÌ¿Â È°¼º±â¸¦ °¡Áö°í ÀÖ¾î Á¤Àü±âÀûÀ¸·Î ¾çÀ̿¸¸,À½À̿±³È¯¸·Àº À½À̿¸¸ ¼±ÅÃÀûÀ¸·Î Åë°ú½ÃÅ°°í,À̿±³È¯¸· »çÀÌ¿¡ ÃæÁøµÈ À̿±³È¯¼öÁö´Â ÀÌ¿ÂÀÇ À̵¿¼Óµµ¸¦ Áõ°¡½ÃÅ°´Â ¸Å°³Ã¼·Î ÀÛ¿ëÇÏ°í Àü±âÀúÇ×À» °¨¼Ò½ÃÅ°´Â ¿ªÈ°À» ÇÑ´Ù.

 

EDI¿ø¸®

(EDI¿ø¸®)

 

(2) Àç»ý ¿ø¸®

  • EDIÀÇ Àç»ý¿ø¸®´Â ¿ø¼ö°¡ ¼¿¿¡ ÃæÁøµÇ¾î ÀÖ´Â À̿±³È¯¼öÁö¸¦ Áö³¯ ¶§ ¿ø¼ö¿¡ Æ÷ÇÔµÈ ÀÌ¿ÂÀº ¼öÁö¿¡ ÈíÂøµÈ´Ù.±×¸®°í ÈíÂøµÈ ÀÌ¿ÂÀº Àü±ØÆÇÀÇÀη¿¡ ÀÇÇØ À̿±³È¯ ¸·(¸âºê·¹ÀÎ)À» Åë°úÇÏ¿© À½±ØÆÇ(cathode)¿¡´Â ¾çÀÌ¿ÂÀÌ,¾ç±ØÆÇ(anode)¿¡´Â À½ÀÌ¿ÂÀÌ ¸ðÀÌ°Ô µÈ´Ù.
  • µ¿½Ã¿¡ ¹°¿¡ È帣´Â Á÷·ùÀü±â°¡ ¹°À» ºÐ¸®ÇÏ¿© »ý¼ºµÈ ¼ö¼Ò(H+)¿Í ¼ö»êÈ­¹°(OH-)ÀÌ¿ÂÀÌ Áö¼ÓÀûÀ¸·Î À̿±³È¯¼öÁö¸¦ Àç»ýÇÏ¿© ¾àÇ° Àç»ý ¾øÀÌ ¹Ý¿µ±¸ÀûÀ¸·Î ÀÌ¿ëÀÌ °¡´ÉÇÑ ¹æ½ÄÀÌ´Ù.

 

(3) Ư ¡

  • ÀÏÁ¤ÇÑ °í¼øµµÀÇ ¼öÁúÀ» ¿¬¼ÓÀûÀ¸·Î »ý»ê °¡´ÉÇÏ´Ù.
  • ¾àÇ° Àç»ýÀ» ÇÏÁö ¾Ê¾Æ Æó¼ö ÁßÈ­¼³ºñ°¡ ÇÊ¿äÇÏÁö ¾Ê´Ù.
  • Àü±âÀûÀ¸·Î ó¸®Çϱ⠶§¹®¿¡ ¿îÀüÀÌ ¸Å¿ì ½±´Ù.
  • À¯Áö°ü¸®°¡ ¸Å¿ì °£ÆíÇÏ¸ç ºñ¿ëÀÌ Àû´Ù.
  • ÀåÄ¡°¡ ¼ÒÇüÀ¸·Î °£ÆíÇÏ´Ù.
  • EDIÀÇ ¿ø¼ö´Â RO¼ö ÀÌ»óÀ̾î¾ß Çϸç,À¯ÀÔ À¯·®ÀÌ ÀÏÁ¤ÇØ¾ß ÇÑ´Ù

 

3) MBP(Mixed Bed Polisher,À̿±³È¯ÀåÄ¡)

  • MBP´Â À̿±³È¯¼öÁö(Ion exchange resin)¸¦ ÀÌ¿ëÇÏ¿© °í¼øµµÀÇ ¹°À» »ý»êÇϴµ¥ »ç¿ëµÇ´Â½Ã½ºÅÛÀ¸·Î , ±× Á¾·ù¿¡´Â ¾çÀ̿±³È¯ÀåÄ¡,À½À̿±³È¯ÀåÄ¡ ¹× È¥»óÀ̿±³È¯ÀåÄ¡ µîÀÌ ÀÖ´Ù.
  • À̿±³È¯ÀåÄ¡´Â ÁÖ±âÀûÀÎ Àç»ýÀÌ ÇÊ¿äÇϸç,Àç»ýÁ¦·Î´Â ¿°»ê,Ȳ»ê,°¡¼º¼Ò´Ù µîÀÇ ¾àÇ°ÀÌ »ç¿ëµÈ´Ù.Àç»ýÀº °¡µ¿À» ¸ØÃß°í ¾àÇ°À» ÀÌ¿ëÇÏ¿© ¼öÁöÀÇ À̿±³È¯´É·ÂÀ» º¹¿øÇÏ´Â ¹æ½ÄÀ¸·Î ºñ°¡µ¿½Ã°£ÀÌ ¹ß»ýÇÏ°í ¾àÇ° °ú´Ù »ç¿ë µî ¸¹Àº ´ÜÁ¡ÀÌ ÀÖ¾î À̸¦ °³¼±Çϱâ À§ÇÑ ´Ù¾çÇÑ À̿±³È¯ÀåÄ¡°¡ °³¹ß․Àû¿ëµÇ°í ÀÖ´Ù.

 

MBP;Mixed Bed Polisher

(MBP;Mixed Bed Polisher)

 

(1) À̿±³È¯¼öÁö(Ion exchange resin)

  • À̿±³È¯¼öÁö´Â À̿±³È¯ÀÇ ¸Å°³Ã¼ ¿ªÇÒÀ» ÇÏ´Â ¼öÁö·Î ÀϹÝÀûÀ¸·Î À¯±âÆú¸®¸Ó ±âÁúÀÇ ¹é»ö ¶Ç´Â ³ë¶õ»ö °è¿­ÀÌ¸ç ¹Ý°æÀÌ 0.25~1.43 mmÀÎ ¸¶ÀÌÅ©·Î ºñµå ÇüÅÂÀÌ´Ù.Ç¥¸éÀº Å« Ç¥¸éÀûÀ» À§ÇØ ³»․¿ÜºÎ¿¡ ´Ù°øÁúÀ» °¡Áö°í ÀÖ´Ù.
  • À̿±³È¯¼öÁöÀÇ ±âº»ÀûÀÎ ¿ø¸®´Â ¹°¼ÓÀÇ À̿°ú À̿±³È¯¼öÁöÀÇ ÀÌ¿Â(H+,OH-)ÀÌ ±³È¯ÇÏ¿© ¹°¼ÓÀÇ ÀÌ¿ÂÀÌ Á¦°ÅµÇ´Â ¹æ½ÄÀ¸·Î ÀÌ¿Â Æ÷Âø·®ÀÌ Æ÷È­»óÅ¿¡ À̸£¸é ¾àÇ°À¸·Î Àç»ýÇÏ¿© ´Ù½Ã »ç¿ëÇÏ´Â ¹æ½ÄÀÌ´Ù.
  • Àç»ý ¹æ¹ýÀº ¿¬¼ö±âÀÇ °æ¿ì´Â NaCl¿ë¾×À¸·Î Àç»ýÇÏ°í,¼ø¼öÀåÄ¡ÀÇ ¾çÀ̿±³È¯¼öÁö´Â ¹±Àº ¿°»êÀ̳ª Ȳ»ê ¿ë¾×À¸·Î,À½À̿±³È¯¼öÁö´Â ¹±Àº NaOH¿ë¾×À¸·Î Àç»ýÇÑ´Ù.

 

Ion exchange resin

  

(Ion exchange resin & ÀüÀÚÇö¹Ì°æ È®´ë)

 

(2) À̿±³È¯¼öÁö Á¾·ù

  • ¾çÀ̿±³È¯¼öÁö :°­»ê¼º /¾à»ê¼º
  • À½À̿±³È¯¼öÁö :°­¿°±â¼º /¾à¿°±â¼º

 

(3) ¿ëµµ

  • ¿¬¼öÈ­(Softening),Å»ÀÌ¿Â(Deionzation),È­ÇоàÇ°ÀÇ Á¤Á¦ ¹× ¹°ÁúÀÇ ºÐ¸® µî¿¡ »ç¿ëÇÑ´Ù.
  • ¿¬¼öÈ­¶õ Ca, Mgµî 2°¡ IonÇÔ·®ÀÌ ³ôÀ»¼ö·Ï °æµµ°¡ ³ô¾ÆÁ®¼­ °æ¼ö(¼¾¹°)°¡ µÇ´Âµ¥ À̿¼º ¹°ÁúÀ» Á¦°ÅÇÏ¿© ´Ü¹°(¿¬¼ö, Soft Water)·Î ¹Ù²Ù´Â °ÍÀ» ¸»ÇÑ´Ù.
  • À̿±³È¯¼öÁö¿¡ ÀÇÇÑ ¿¬¼öÈ­´Â ¿ª»ïÅõ ¼ø¼öÁ¦Á¶ ÀåÄ¡¿¡ ¾Õ¼­ ¹°ÀÇ °æµµ¸¦ ³·Ãß±â À§ÇÑ Àüó¸® ´Ü°è·Î ÀÌ¿ëµÇ±âµµ Çϸç,Ãʼø¼ö Á¦Á¶°øÁ¤¿¡¼­´Â ¼öÁßÀÇ À̿¼º ¹°ÁúÀ» Á¦°ÅÇÏ´Â ¿ªÇÒÀ» ÇÑ´Ù.

 

(4) Ư¡

  • Áõ·ù ¹æ½Ä¿¡ ºñÇÏ¿© ¿î¿µ°ü¸®ºñ Àú·Å
  • ¹Ì»ý¹°·ù °ÅÀÇ Á¦°Å ºÒ°¡
  • À¯±â¹°ÀÇ °æ¿ìµµ ÀÌ¿ÂÀ» ¶çÁö ¾Ê´Â °ÍÀº °ÅÀÇ Á¦°Å ºÒ°¡
  • DIÀÇ °æ¿ì ·¹Áø ÀÔÀÚ°¡ ¿À¿°¿øÀ¸·Î ¹ß»ýÇϸç,¹Ì»ý¹° ¹ø½Ä ½±´Ù.

 

4) Å»±â°øÁ¤

  • Å»±â´Â ¼öÁßÀÇ »ê¼Ò,ź»ê°¡½º µîÀÇ °¡½º¸¦ Á¦°ÅÇÏ´Â °øÁ¤À¸·Î ¿ëÁ¸»ê¼Ò´Â ºÎ½Ä¼ºÀÌ °­ÇÏ¿© Ãʼø¼ö °øÁ¤¿¡¼­ Á¦°Å´Â ÇʼöÀûÀÌ´Ù.Å»±â ¹æ½Ä¿¡´Â ¸·Å»±â¹ýÀåÄ¡(MDG),Żź»êÀåÄ¡,Áø°øÅ»±âÀåÄ¡,Ã˸ÅÅ»±âÀåÄ¡ µîÀÌ ÀÖÀ¸¸ç,¼³Ä¡ °ø°£ÀÌ CompactÇϸç,¼³Ä¡°¡ ½¬¿ö ¸·Å»±âÀåÄ¡°¡ ¸¹ÀÌ »ç¿ëµÈ´Ù.

 

(1) ¸·Å»±âÀåÄ¡(MDG)

  • MDG(Membrane Degasifier)´Â Áß°ø»çÇü ±âü ºÐ¸®¸·À» ÀÌ¿ëÇÏ¿© ¼öÁßÀÇ ¿ëÁ¸ »ê¼Ò ¹× CO2¸¦ Á¦°ÅÇÏ´Â ¹æ½ÄÀÌ´Ù.
  • MDG´Â Àü±â Å»ÀÌ¿ÂÀåÄ¡(EDI)Àü´Ü¿¡ ¼³Ä¡ÇÏ¿© EDIÀÇ È¿À²À» ³ôÀ̰ųªÃʼø¼ö ¼³ºñÀÇ ÃÖÁ¾¼øȯ´Ü°è¿¡ ¼³Ä¡ÇÏ¿© ¼öÁú °³¼± ¸ñÀûÀ¸·Î »ç¿ëÇÑ´Ù.
  • ¼Ò¼ö¼º Áß°ø»ç ¸·À» ÀÌ¿ëÇÏ¿© À¯ÀÔ¼ö´Â Membrane¿ÜºÎ·Î È帣°í Gas´Â ¾ÈÂÊÀ¸·Î È帣¸ç, MembraneÀÇ ¼Ò¼ö¼ºÀ¸·Î ÀÎÇØ À¯ÀÔ¼ö¿Í Gas´Â È¥ÇÕµÇÁö ¾Ê°í Á¢ÃËÇϸç,¼öÁßÀÇ »ê¼Ò´Â Áß°ø»ç¸·ÀÇ ³»ºÎ¿¡ È帣´Â Gas·Î ºÐ»êµÈ´Ù.
  • MDG´Â ¼³Ä¡ °ø°£ÀÌ ÀÛ°í,¼³Ä¡°¡ °£´ÜÇÏ°í,À̵¿ÀÌ ½¬¿î ÀåÁ¡ÀÌ ÀÖ¾î Ãʼø¼ö °øÁ¤¿¡ ÀÌ¿ëµÈ´Ù.

 

Å»±â¸· ¿ø¸®

(Å»±â¸· ¿ø¸®)

 

(2) ±âŸ Å»±â¹ý

  • Żź»êÀåÄ¡(DG) :°úÆ÷È­·Î ¿ëÇصǾî Àִ ź»ê°¡½º¸¦ ´ë±â·Î ¹æ»ê Á¦°Å
  • Áø°øÅ»±âÀåÄ¡(VDG) :Áø°ø »óÅ¿¡¼­ ¿ëÁ¸°¡½º ºÐ¾ÐÀ» ÀúÇϽÃÄÑ ¿ëÇصǾî ÀÖ´Â ¸ðµç °¡½º Á¦°Å
  • Ã˸ÅÅ»±âÀåÄ¡ :À̿±³È¯¼öÁö¿¡ ¹ÙµðµãÀ» ³ÖÀº Ã˸żöÁö·Î ¿ëÁ¸»ê¼Ò¸¦ ¼ö¼Ò·Î ȯ¿ø Á¦°ÅÇÔ
  • °íÈ¿À²Áø°ø Å»±âÀåÄ¡(HE-VDG) :±â¾×Á¢ÃËžÀ¸·Î °¡½ºÃø¿¡ Áú¼Ò¸¦ »ç¿ëÇÏ¿© ¿ëÁ¸»ê¼Ò ºÐ¾ÐÀ» ÀúÇϽÃÄÑ »ê¼ÒÁ¦°Å

 

5) UV(Ultraviolet,Àڿܼ±)

  • Ãʼø¼ö Á¦Á¶°øÁ¤¿¡¼­ »ç¿ëµÇ´Â UVÀåÄ¡·Î´Â »ì±Õ UV¿Í »êÈ­ UVÀåÄ¡°¡ »ç¿ëµÈ´Ù.»ì±ÕUVÀåÄ¡´Â UV-C¿µ¿ª Àڿܼ±(254nm)À¸·Î ¼öÁß »ý±Õ·ù³ª ¹Ì»ý¹°À» »ì±ÕÇÏ´Â ¿ø¸®ÀÌ´Ù.¶ÇÇÑ »êÈ­ UVÀåÄ¡´Â ¼öÁßÀÇ ¹Ì·® À¯±â¹°À» Àڿܼ±(ÁÖ·Î 185nm)À¸·Î »êÈ­ºÐÇØÇÑ´Ù.¹°ºÐÀÚÀÇ ±¤ºÐÇØ·Î »ý¼ºµÈ ¼ö»êÈ­¶óµðÄ®¿¡ ÀÇÇØ À¯±â¹°À» »êÈ­ºÐÇØÇÑ´Ù
  • Àڿܼ±(UV)Àº °¡½Ã±¤¼±º¸´Ù´Â ª°í X¼±º¸´Ù´Â ±ä 10nm¿¡¼­ 400nm(750THz)ÀÇ ÆÄÀåÀ» °¡Áø ÀüÀÚÆÄ ¹æ»ç¼±ÀÇ ÇÑ ÇüÅ·ΠÇÞºû¿¡ Á¸ÀçÇϸç,ž翡¼­ ³ª¿À´Â ÃÑ ÀüÀÚÆÄ ¹æ»ç¼±ÀÇ ¾à 10%¸¦ Â÷ÁöÇÑ´Ù.
  • ¶ÇÇÑ Àڿܼ±(UV)Àº Àü±â ¾ÆÅ©¿Í ¼öÀº ·¥ÇÁ,ÅÂ´× ·¥ÇÁ,ºí·¢ ¶óÀÌÆ® µîÀÇ Æ¯¼ö Á¶¸í¿¡ ÀÇÇؼ­µµ ¹ß»ýÇϸç,Àü±â ¾ÆÅ© ¿ëÁ¢½Ã º¸¾È°æÀ» Âø¿ëÇÏ°í ÇǺθ¦ µ¤¾î¼­ º¸È£ÇØ¾ß ÇÏ´Â ÀÌÀ¯À̱⵵ ÇÏ´Ù.
  • Àڿܼ±Àº È­ÇÐÀû,»ý¹°ÇÐÀû È¿°ú´Â ´Ü¼øÇÑ °¡¿­ È¿°úº¸´Ù ´õ Å©¸ç,È­ÇйÝÀÀÀ» ÀÏÀ¸Å°°í Çü±¤¹°ÁúÀ» ÀÚ±ØÇÏ´Â ´É·Â ¶§¹®¿¡ ¿©·¯ °¡Áö ÀÀ¿ëºÐ¾ß°¡ ÀÖ´Ù.

 

Ultraviole

(UV ÇÊÅÍ)

 

ED(EDR)   ¢º